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在前不久的 GTC 2023 上,英伟达带来了一项突破性的技术——cuLitho计算光刻技术软件库,可将计算光刻加速40倍以上,为推进2nm甚至更先进工艺奠定基础。
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1.2pF (1R2) ±0.25pF 50V 编带
品牌:muRata(村田)
GJM1555C1H1R2CB01D
封装/规格:0402我要选购
270pF (271) ±10% 50V 编带
品牌:FH(风华)
0805B271K500NT
封装/规格:0805我要选购
2.2uF(225) ±10% 16V 编带
GRM155R61C225KE11D
200pF (201) ±10% 50V 编带
0402B201K500NT
2.4pF (2R4) ±0.25pF 50V 编带
0402CG2R4C500NT
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